二氧化硅照片
引言
氮化镓(GaN)具有六方纤锌矿结构，直接带隙约为3.4eV，目前已成为实现蓝光发光二极管(led)的主导材料。由于GaN的高化学稳定性，在室温下用湿法化学蚀刻来蚀刻或图案化GaN是非常困难的。与湿法蚀刻技术相比，干法蚀刻技术可以提供各向异性的轮廓、快速的蚀刻速率，并且已经被用于限定具有受控轮廓和蚀刻深度的器件特征。
实验与讨论
我们用金属有机化学气相沉积法在(000±1)蓝宝石衬底上生长了5.2μm厚的GaN外延层，通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在GaN上沉积一层800nm厚的二氧化硅硬掩模。然后将正性光致抗蚀剂AZ4620旋涂到样品上。曝光后，在光致抗蚀剂层中定义图案。然后通过基于氟的化学反应离子蚀刻(RIE)打开SiO2硬掩模，之后使用ICP蚀刻将图案从SiO2转移到GaN层中。
为了确定对二氧化硅的蚀刻速率和蚀刻选择性，使用轮廓测量法测量二氧化硅掩模的蚀刻深度。在用缓冲HF溶液剥离二氧化硅掩模之后，从轮廓术获得GaN的蚀刻深度。蚀刻速率由蚀刻深度和蚀刻时间决定。
在保持1000W ICP/150W RF功率、70sccm总气体流量、30%Cl2/70%BCl3的同时，英思特研究了操作压力对GaN蚀刻速率的影响。由于在较低压力下反应物受限，我们发现GaN蚀刻速率随着压力的增加而增加。这是由于较高的DC偏压在反应或再沉积在蚀刻表面上之前，引发反应性等离子体物种的溅射解吸。
图1显示出了在300W ICP/100W RF功率、70sccm总流速、90%Cl2/10%BCl3、7毫托操作条件下光刻胶掩蔽的GaN的SEM横截面显微照片。为了提高GaN对光刻胶的刻蚀选择性，ICP功率和RF功率从300W/100W增加到450W/150W。
在450W ICP/150W RF功率下，GaN蚀刻速率为320nm/min，对光致抗蚀剂的蚀刻选择性为0.76。当ICP/RF功率从300W/100W增加到450W/150W时，GaN对光刻胶的蚀刻选择性从0.43提高到0.76。因此，GaN对光刻胶的蚀刻选择性强烈地依赖于ICP和RF功率。
对于深沟槽的形成，需要更高的离子通量来实现GaN的高蚀刻速率。由于对光致抗蚀剂的低选择性和光致抗蚀剂掩膜的腐蚀，高RF功率经常导致侧壁和表面粗糙。我们通常使用诸如SiO2的硬掩模来代替光致抗蚀剂，因为在基于Cl2的等离子体化学中，GaN相对于SiO2的蚀刻选择性是有利的。
为了提高GaN相对于SiO2的蚀刻选择性，我们将蚀刻条件固定在1000W ICP/300W RF功率、70sccm的总流速、90%Cl2/10%BCl3、14毫托操作，如图2所示GaN对SiO2的蚀刻选择性为7.92，并且观察到更垂直的蚀刻轮廓。与之前的工艺参数相比，随着Cl2/BCl3中Cl2浓度的增加和射频功率的增加，GaN和SiO2的刻蚀速率也随之增加。
结论
在本工作中，英思特使用Cl2/BCl3电感耦合等离子体研究了输入工艺参数对GaN薄膜刻蚀特性的影响。尽管较高的ICP/RF功率可以获得较高的GaN/光致抗蚀剂蚀刻选择性，但是由于光致抗蚀剂掩模腐蚀，它会导致侧壁的刻面和奇怪的侧壁轮廓。
在特定的ICP/RF功率和固定的混合物成分下，GaN和SiO2的蚀刻速率会随着操作压力的增加而降低，并且由于SiO2蚀刻速率的降低比GaN蚀刻速率的降低更快，GaN对SiO2的蚀刻选择性会随着操作压力的增加而增加。
荣阙盛1785二氧化硅用途有哪些?
官物瑾19478528092 ______ 二氧化硅 【东莞市强大化工有限公司】 平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品(玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等)、光学玻璃、玻璃纤维、玻璃仪器、导电玻璃、玻璃布及防射线特种玻璃等的主要原料 陶瓷及耐火材料 瓷器的胚料和釉料,窑炉用高硅砖、普通硅砖以及碳化硅等的原料 冶金 硅金属、硅铁合金和硅铝合金等的原料或添加剂、熔剂 建筑 混凝土、胶凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能检验材料(即水泥标准砂)等 化工 硅化合物和水玻璃等的原料,硫酸塔的填充物,无定形二氧化硅微粉 机械 铸造型砂的主要原料,研磨材料(喷砂、硬研磨纸、砂纸、砂布等) 电子 高纯度金属硅、通讯用光纤等 橡胶、塑料 填料(可提高耐磨性) 涂料 填料(可提高涂料的耐候性) 医学
荣阙盛1785请问二氧化硅能否溶于水???为甚麽? -
官物瑾19478528092 ______ 化学式SiO2,式量60.08.也叫硅石,是一种坚硬难溶的固体.它常以石英、鳞石英、方石英三种变体出现.从地面往下16千米几乎65%为二氧化硅的矿石.天然的二氧化硅分为晶态和无定形两大类,晶态二氧化硅主要存在于石英矿中.纯石英为无色晶体,大而透明的棱柱状石英为水晶.二氧化硅是硅原子跟四个氧原子形成的四面体结构的原子晶体,整个晶体又可以看作是一个巨大分子,SiO2是最简式,并不表示单个分子.密度2.32g/cm3,熔点1723±5℃,沸点2230℃.无定形二氧化硅为白色固体或粉末.化学性质很稳定.不溶于水也不跟水反应.是酸性氧化物,不跟一般酸反应.
荣阙盛1785二氧化硅价格多少?
官物瑾19478528092 ______ 纳米二氧化硅 又叫气相法白炭黑、气相二氧化硅,牌号不一样价格也不一样,价格在18到120元左右一公斤 下面以东莞市强大化工有限公司的牌号举例说明(www.dg-qd.cn ) 利用氯硅烷在氢氧火焰中高温水解制得的气相二氧化硅(俗称气相...
荣阙盛1785二氧化硅可以做什么用
官物瑾19478528092 ______ 普通玻璃、石英玻璃,水晶的主要成分是二氧化硅,二氧化硅的用途很广,目前已被使用的高性能通讯材料光导纤维的主要原料就是二氧化硅. 一般较纯净的石英可用来制造石英玻璃.石英玻璃常用于制造耐高温的化学仪器. 水晶常用来制造电子工业的重要部件、光学仪器,也用来制成高级工业品和眼镜片等.
荣阙盛1785常用做吸附剂的二氧化硅是无定形的吗
官物瑾19478528092 ______ 是的. 二氧化硅(硅石)是最普遍的化合物,在自然界中分布极广,构成各种矿物和岩石.最重要的晶体硅石是石英.大而透明的石英晶体叫水晶,黑色几乎不透明的石英晶体叫墨晶.石英的硬度为7.石英玻璃能透过紫外线,可以用来制造汞蒸气紫外光灯和光学仪器.自然界中还有无定形的硅,叫做硅藻土,常用作甘 油 炸 药(硝 化甘 油)的吸附体,也可作绝热、隔音材料.普通的砂子是制造玻璃、陶瓷、水泥和耐火材料等的原料.硅酸干燥脱水后的产物为硅胶,它有很强的吸附能力,能吸收各种气体,因此常用来作吸附剂、干燥剂和部分催化剂的载体.
荣阙盛1785二氧化硅是什么意思了? -
官物瑾19478528092 ______ 你好! 中文名:二氧化硅 外文名:Silicon dioxide 化学式:SiO2 分子量:60.084 CAS:14808-60-7 毒性和危险性:无毒,但长期吸入易得硅肺病 管制类型:不管制 解说: 二氧化硅的化学式为SiO₂,不溶于水. 不溶于酸,但溶于氢氟酸及热...
荣阙盛1785如何还原二氧化硅?
官物瑾19478528092 ______ 本发明涉及一种真空碳热还原制备高纯球形二氧化硅的方法,采用生物质燃烧灰、粉煤灰、二氧化硅矿为原料,木炭、石油焦或煤为碳质还原剂,在真空炉内,进行碳热还原反应,生成一氧化硅气体,冷却后发生歧化反应生成球形纳米二氧化硅和球形纳米硅,经过氧化处理,生成高纯球形二氧化硅,其纯度大于99.99%,成球率达到90%以上,粒度分布均匀,粒径为50-200纳米之间,以满足电子、电器、化工产品的功能填料的需要.
荣阙盛1785标准情况下二氧化硅是气体吗 -
官物瑾19478528092 ______ 不是.是固体而且熔沸点很高
荣阙盛1785二氧化硅有什么用 -
官物瑾19478528092 ______ 二氧化硅广泛存在于自然界中,与其他矿物共同构成了岩石.天然存在的二氧化硅也叫硅石,是一种坚硬难熔的固体. 石英的主要成分也是二氧化硅,透明的石英晶体,就是我们常说的水晶. 二氧化硅的化学性质 二氧化硅的化学性质不活泼,...
荣阙盛1785二氧化硅(SiO2)又称硅石,是制备硅及其化合物的重要原料(如图).下列说法正确的是:( )A.SiO2 -
官物瑾19478528092 ______ A、二氧化硅只是能和特殊酸反应,和其它酸不反应,和酸的反应没有普遍性,所以不能说明其具有两性,故A错误;B、红宝石的主要成分是氧化铝,玛瑙的主要成分是二氧化硅,故B错误;C、高温条件下,二氧化硅和碳酸钠反应生成硅酸钠和二氧化碳,常温下,二氧化硅和碳酸钠不反应,所以不能说明H2SiO3的酸性强于H2CO3,故C正确;D、图中氧化还原反应有3个,非氧化还原反应有7个,所以图中所示转化反应中非氧化还原反应的数目多于氧化还原反应的数目,故D错误;故选C.