单晶硅还原炉的原理

文雯武5028单晶硅的生产流程能不能简化呢?
周柔梁19792625304 ______ 克服生产流程太长、太烦琐的唯一方法就是“简化”.能,回答是肯定的.问题是怎样来简化.下面就来看看简化单晶硅生产流程的几个途径. (1) 将第一、二两个阶段合...

文雯武5028在单晶拉制过程中(炉内冲氩气)石墨坩埚会与石英坩埚发生还原反应而导致漏硅想象? -
周柔梁19792625304 ______ 熔硅会与石英坩埚反应生成SiO蒸汽,Si+SiO2→SiO 而石英坩埚分为两层,外层是粗石英砂,与石墨坩埚接触,内存透明层与熔硅接触,外层粗石英砂隔绝了透明层与石墨锅的反应,所以是不会发生漏硅的!

文雯武5028单晶硅生长炉的介绍 -
周柔梁19792625304 ______ 单晶硅生长炉1是通过直拉法生产单晶硅的制造设备.主要由主机、加热电源和计算机控制系统三大部分组成.向左转|向右转

文雯武5028工业制硅原理:第一步SIO2+2C,用C还原出来的为什么是粗硅?第一步WHY直接用H2还原?还有CUO,C+CUO=高温=CU+CO↑,这里用H2还原OK? -
周柔梁19792625304 ______[答案] 因为 C和SIO2都是固态物质 不能确定反应是否反应完全 所以还原出来的物质中海油sio2 和SI 或者c和si

文雯武5028单晶硅从哪里提炼出来的 -
周柔梁19792625304 ______ 高纯度硅在石英中提取,以单晶硅为例,提炼要经过以下过程:石英砂一冶金级硅一提纯和精炼一沉积多晶硅锭一单晶硅一硅片切割. 冶金级硅的提炼并不难.它的制备主要是在电弧炉中用碳还原石英砂而成.这样被还原出来的硅的纯度约98-99%,但半导体工业用硅还必须进行高度提纯.电子级硅的杂质含量约(10^-10)%以下.而在提纯过程中,有一项“三氯氢硅还原法(西门子法)”的关键技术我国还没有掌握,由于没有这项技术,我国在提炼过程中70%以上的多晶硅都通过氯气排放了,不仅提炼成本高,而且环境污染非常严重.

文雯武5028为什么硅的还原性大于碳而碳却能在高温下还原出硅 -
周柔梁19792625304 ______ 还原性比较条件可以认为是:外界不加能量,如果外界加了能量,碳在高温条件下生成了二氧化碳,有稳定的固态生成了不稳定的气态,然后气体释放,可以从熵增原理来解释(大学化学内容),及混乱度增加,从平衡角度也可以粗略明白,生成物被转移走了,所以反应能进一步反应,希望能帮助理解

文雯武5028直拉单晶硅工艺过程中拆清炉的目的是什么?它的下一道工序是什么? -
周柔梁19792625304 ______ 直拉单晶硅生产过程中的拆炉流程是在收尾完成后停炉6个小时左右的时间进行的,正常情况下是取出晶体,对炉内的挥发物进行清除,并用酒精擦洗.检查热场(石墨托碗、加热器、电极等)是否正常,并根据生产炉次对机械真空泵进行清洗换油.然后进入下一炉的生产流程:装料---抽真空----化料----拉制----停炉---拆炉

文雯武5028化学工业上,硅是在电炉中用炭粉还原2氧化硅制得的,若往电炉中加入
周柔梁19792625304 ______ n(SiO2)=1mol所以由原子守恒n(Si)=1mol生成物的质量为m(SiO2)=28g,生成气体的体积(标况)V(CO)=2*22.4=44.8L望我的想法对你有所帮助.

文雯武5028单晶硅(多晶硅)提纯工艺研究分析及改进 -
周柔梁19792625304 ______ 改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢),氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅.国内外现有的多晶硅厂绝大部分采用...

文雯武5028...发生的主要反应 电弧炉 SiO2+2C  1600 - 1800℃  .   si+2CO 流化床反应器 Si+3HCl  250 - 300  .   SiHCl3+H2 还原炉 ①还原炉中发生主要反应的化... -
周柔梁19792625304 ______[答案] (1)①还原炉中SiHCl3和氢气发生反应制得纯硅,SiHCl3+H2 高温 . Si+3HCl,流程分析可知可循环使用的物质为HCl和H2;用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅,石英砂的主要成分是二氧化硅,制备粗硅...