国产euv

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国产euv

来源：baiyundou.net 日期：2024-09-24

IT之家 1 月 15 日消息，光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏，该领域目前仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导，而韩国 S&S Tech 等后来居上者也是主要供应商之一。

韩媒 ETNews 报道称，三星电子已经自主开发出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜，有助于实现供应链多元化和稳定。据证实，这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产品已经可以大规模生产。

▲ EUV 薄膜（pellicle）图源：ASML

IT之家获悉，三星电子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜，当时还公开宣布他们开发出了 82% 透光率薄膜技术，并宣布到 2022 年将拥有 88% 透光率的量产系统。

值得一提的是，韩国公司 S&S Tech 在 2021 年生产成功开发出了透光率达 90% 的半导体 EUV 薄膜，一举成为除了 ASML 之外另一家成功开发出了透光率超过 90% 的 EUV 薄膜的公司。据称，三星对它的要求是将比率提高到 94%。

业界预测，今年 EUV 薄膜的需求将比去年增加近 2 倍，而韩国国产的 EUV 薄膜最早将会在 1~2 年内商用化。此外，台积电也正在加快开发自己的产品以确保 EUV 薄膜可控。

▲ ASML 曝光过程图

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张闹卷4231芯片的波长是什么
沈谈虎18218116861 ______ 芯片的波长为1-10毫米的电磁波,或者30~300GHz频域的电磁波,毫米波位于微波与远红外波相交叠的波长范围,因而兼有两种波谱的特点.根据波的传播理论,频率越高,波长越短,分辨率越高,穿透能力越强,但在传播过程的损耗也越大,传输距离越短相对的,频率越低,波长越长,绕射能力越强,传输距离越远.所以与微波相比,毫米波的分辨率高、指向性好、抗干扰能力强和探测性能好.与红外相比,毫米波的大气衰减小、对烟雾灰尘具有更好的穿透性、受天气影响小.这些特质决定了毫米波雷达具有全天时全天候的工作能力. 芯片的波长是什么芯片没有波长一说,但是制造芯片的光刻机光源有波长一说.一般最先进的EUV光刻机,极紫外光源波长为10-14nm

张闹卷4231mete40和mete40E区别
沈谈虎18218116861 ______ 演示机型:华为Mate40 华为Mate40E系统版本:HarmonyOS 2.01、芯片区别:华为Mate40采用的是麒麟9000E,5nm制程工艺SoC.华为Mate40E采用的是麒麟990E,7nm+EUV制程工艺SoC.2、像素区别:两者前置都为1300万像素,华为Mate40后置为5000万像素主摄+1600万像素+800万像素.华为Mate40E后置为4800万像素主摄+1600万像素+800万像素.3、电池容量区别:华为Mate40为4200mAh,华为Mate40E为4200mAh.

张闹卷4231麒麟990和980相差大吗? -
沈谈虎18218116861 ______ 1、麒麟980则采用三丛架构,CPU架构由2个[email protected]+2个[email protected]+4个[email protected]八核组成,主频32313133353236313431303231363533e58685e5aeb931333433646434核心稍微比麒麟990低一些. 但值得注意的是,麒麟990...

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（编辑：自媒体）