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真空镀膜

来源:baiyundou.net   日期:2024-08-09

智通财经APP获悉,国泰君安发布研究报告称,重视钙钛矿从0-1关键时期,镀膜设备享受路线快速迭代福利期。钙钛矿电池核心工艺路线未定,助力性能提升、不同于晶硅工艺的镀膜设备享受广阔空间。例如以低成本为代表的狭缝涂布设备,及以低损伤著称的镀膜类设备如真空蒸镀、RPD、ALD等。该行认为随着规模化上量,真空蒸镀机有望进一步降本。当前制膜路线尚未确定,能够制备出大面积、高效率、高良品率钙钛矿器件的涂/镀膜设备将率先占领市场。

国泰君安主要观点如下:

钙钛矿核心工艺在镀膜,短期对效率关注高于成本。

当前钙钛矿电池工艺路线尚未完全确定,核心镀膜工艺设计多样,各有优势。中短期效率提升将是钙钛矿企业第一要务,制备工艺可参考具备相似器件结构和光电转化原理的OLED面板行业。OLED真空蒸镀工艺可直接迁移至钙钛矿电池中,有利于实现良品率高、均一性好的薄膜。由于钙钛矿电池对真空蒸镀精度要求更低、所需工序更少、气密性要求低,结构简单,价格将远低于OLED用真空蒸镀设备。随着规模化上量,真空蒸镀机有望进一步降本。当前制膜路线尚未确定,能够制备出大面积、高效率、高良品率钙钛矿器件的涂/镀膜设备将率先占领市场。

远期高性价比优势显著,降本路径参考HJT工艺。

受钙钛矿器件特质影响,其对成本控制更加敏感,远期钙钛矿行业将追求极致的性价比,从投资到生产需要全面降本。HJT工艺通过多层功能层沉积制备,且同主流晶硅路线较难迁移,可以HJT行业的投资额下降路径为参考考虑钙钛矿器件降本空间。随着钙钛矿电池GW级规模起量,投资成本有望降低至当前1/2以上,而单机产能提升及核心零部件国产替代后,预计将为钙钛矿产业提供更大降本可能。

重视钙钛矿从0-1关键时期,镀膜设备享受路线快速迭代福利期。

钙钛矿电池核心工艺路线未定,助力性能提升、不同于晶硅工艺的镀膜设备享受广阔空间。例如以低成本为代表的狭缝涂布设备,及以低损伤著称的镀膜类设备如真空蒸镀、RPD、ALD等。真空蒸镀设备从OLED产业迁移,OLED领域龙头基础牢固。RPD、ALD、PVD等设备以广泛应用于晶硅光伏行业,光伏设备龙头具备先发优势。

激光策略类似薄膜电池,高价值量高标准吸引优质厂商入局。

受钙钛矿柔性材料特质影响,钙钛矿电池需要通过激光划线实现串联,因此所需4道激光工艺最为确定。百兆瓦级激光设备价值量约1000万元。由于钙钛矿电池对激光刻蚀精度远高于晶硅电池,刻蚀尺度在几十纳米,更类似于薄膜电池、半导体行业刻蚀,前期具备高精度激光刻蚀行业供货能力的厂商更具竞争力。

风险提示:钙钛矿电池技术提升不及预期、产业推进不及预期、下游应用需求不及预期。

本文源自智通财经网

","gnid":"90fb2d3f3fe5648e6","img_data":[{"flag":2,"img":[]}],"original":0,"pat":"art_src_3,fts0,sts0","powerby":"hbase","pub_time":1681703580000,"pure":"","rawurl":"http://zm.news.so.com/905ad9078d96d277a7c03dd66d29cccf","redirect":0,"rptid":"9547e749d53fd52b","rss_ext":[],"s":"t","src":"金融界","tag":[{"clk":"ktechnology_1:国泰君安","k":"国泰君安","u":""},{"clk":"ktechnology_1:oled","k":"oled","u":""}],"title":"国泰君安:真空蒸镀机有望进一步降本 钙钛矿器件涂/镀膜设备将率先占领市场

温嵇炉5067PVD真空镀膜原理是什么? -
益庆颜19411044467 ______ 目前常用的PVD有三种:真空蒸镀、溅射镀膜、和离子镀.它们的工作原理如下: 1.真镀空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的压力下,用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层. 2.溅射镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法.施镀时,将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体,并保持其压力为0.13至1.33Pa. 3.离子镀:是在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,吧蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上.

温嵇炉5067真空镀膜工艺 具体是指什么.... -
益庆颜19411044467 ______ 真空镀膜:在被镀产品表面加盖一层较薄金属或其它溥膜

温嵇炉5067名词解释真空镀膜 -
益庆颜19411044467 ______ 1. Three-dimensional rotation 2. Interface mixing 3. Ossetia coating 4. Red hardness of 5. Fluoro rubber seals

温嵇炉5067真空镀膜技术的介绍 -
益庆颜19411044467 ______ 《真空镀膜技术》是由张以忱编写,冶金工业出版社出版的一本书籍.

温嵇炉5067弱弱的问一下,真空镀膜是不是“电镀”的意思 -
益庆颜19411044467 ______ 是的,真空镀膜就是“电镀”的意思.电镀分为“真空电镀”和“化学药水镀”. 【真空电镀】主要包括:真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型.它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件或不锈钢等表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层. 【化学药水镀】主要是利用电解工艺,将金属或合金沉积在镀件表面,形成金属镀层的表面处理技术.利用电解在制件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程.但大家不叫它水镀,而是统称“电镀”.以上回答请参考!

温嵇炉5067真空镀膜分几种? -
益庆颜19411044467 ______ 真空镀膜主要有蒸发镀膜(电子枪,阻蒸等).磁控溅射镀膜,多弧离子镀等

温嵇炉5067真空镀膜是真金电镀吗?
益庆颜19411044467 ______ 真空镀膜不能说是真金电镀,因为还有很多膜层没有真金的,如:IP黑,IP枪,IP钛,IP铬,IP咖啡,IP蓝色等等.只有IP金色,IP玫瑰金,IP18K金色,IP14K金色含真金的镀种才能说是真金电镀

温嵇炉5067真空镀膜技术有哪些? -
益庆颜19411044467 ______ 真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.

温嵇炉5067什么是真空镀?过程是什么,真空可镀什么产品? -
益庆颜19411044467 ______ 真空镀膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜.溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多.新型的溅镀设备几乎都...

温嵇炉5067真空度对真空镀膜的影响? -
益庆颜19411044467 ______ 真空度高,则真空镀膜质量较好. 各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体.由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀...

(编辑:自媒体)
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