亚阈值摆幅怎么看
金融界2024年2月6日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“半导体器件及其制作方法、电子设备“，公开号CN117529818A，申请日期为2021年11月。
专利摘要显示，本申请提供了一种半导体器件及其制作方法、电子设备，涉及半导体技术领域，能够降低晶体管的亚阈值摆幅。该半导体器件中包括晶体管。晶体管包括沟道、源极、漏极；源极和漏极设置在沟道的两端；源极与沟道之间设置有第一插层，且第一插层与源极、沟道均接触。沟道采用轻掺杂半导体或本征半导体。漏极采用重掺杂半导体。源极采用P型重掺杂半导体；其中，第一插层采用高功函数材料，且高功函数材料的费米能级距离沟道半导体价带不超过其能隙的1/3；或者，源极采用N型重掺杂半导体；第一插层采用低功函数材料，且低功函数材料的费米能级距离沟道半导体导带不超过其能隙的1/3。
本文源自金融界
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