光刻胶涂胶工艺

梅林有4431计算器的显示器有什么显示的也有什么 -
糜媚韩19763115168 ______ 液晶显示器(lcd)是基于液晶电光效应的显示器件.包括段显示方式的字符段显示器件;矩阵显示方式的字符、图形、图像显示器件;矩阵显示方式的大屏幕液晶投影电视液晶屏等.液晶显示器的工作原理是利用液晶的物理特性,在通电时导通...

梅林有4431液晶显示器制造流程 -
糜媚韩19763115168 ______ 液晶显示器制造工艺流程基础技术一.工艺流程简述 前段工位:ITO 玻璃的投入(grading)—— 玻璃清洗与干燥(CLEANING)——涂光刻胶(PR COAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP) 显影(MAIN CURE)——蚀刻(...

梅林有4431半导体硅片匀胶的作用是什么 -
糜媚韩19763115168 ______ 匀胶的作用主要是讲光刻胶涂平,利用高速旋转的离心力. 匀胶的时候你可以看到滴到Wafer上的一滴液体(匀胶后会高温处理,蒸发掉其中水分,定型,说是固体,其实还是比较软的,后面plasma ETCH之前一般会有一步UVbake,进行加固)由中心向外侧扩散,一圈一圈的,直至完全变平.

梅林有4431详细说明PCB制版的过程 -
糜媚韩19763115168 ______ 先设计好 pcb板图纸,转成胶片,在已经涂好光刻胶的板子上曝光,然后显影(去除不想要的部分),再放在腐蚀液中,去掉无用的铜箔,清洗残留腐蚀液,钻孔.然后清洗光刻胶,涂上阻焊保护膜,经红外线或紫外线固化,再印字,切割.OK,可以用了.你要是想自制PCB可以买那种涂好光刻胶的PCB板,有简要说明,用着方便.再详细就是具体工艺流程了,你要是工程师也不会提这样的问题了.

梅林有4431光刻机和刻蚀机的区别 -
糜媚韩19763115168 ______ 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...

梅林有4431光刻曝光的原理,光学曝光有几种方式 -
糜媚韩19763115168 ______ 光刻就是在需要刻蚀的表面涂抹光刻胶,干燥后把mask覆盖其上,有紫外光源照射,受光部分即可凝固,用药水洗掉未凝固胶膜.没有胶膜保护的部分即可用浓酸浓碱腐蚀表面,腐蚀好以后再洗掉其余的光刻胶,就得到细微的光刻线条.实际情况远比叙述的复杂,为了能够理解简单说说是这样. 曝光方式:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光

梅林有4431计算机常识中形成芯片的多层结构需要精确地重复什么样的工艺步骤?
糜媚韩19763115168 ______ 形成芯片的多层结构需要精确地重复以下的工艺步骤几十次:1.采取特殊方法在空白硅片的表面生成一层薄薄的二氧化硅.这层二氧化硅是不导电的.然后在上面覆盖上...

梅林有4431光刻胶是什么东西? -
糜媚韩19763115168 ______ 光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料. 光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类.在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶.如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶.按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等.光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业.光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求.

梅林有4431正确的曝光技术步骤 -
糜媚韩19763115168 ______ 以点测照逆光为例. 1.先半按快门对太阳测光,这时时保持半按快门,再按住曝光锁不放. 2.之前半按快门已经对焦,这时我觉得对焦不合适,要重新构图. 3.问题来了.我依然按住曝光锁不放,快门松开,再半按快门对人物主体对焦构图.这时曝光数据和之前我想要的是: 相同的. 操作也是正确的.