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国产光刻机龙头

来源:baiyundou.net   日期:2024-09-05

来源丨腾讯科技(ID:qqtech)作者丨温戈编辑丨李海丹题图丨摄图网光刻机作为半导体设备三大件之一,被誉为“半导体工业王冠上的明珠”。2023年1月,随着美国拉拢日本、荷兰达成新的限制对中国出口先进芯片制造设备的协议,将围堵“中国芯”的事件推向了一个高潮,也成为了全民关注的焦点话题。

根据国家统计局发布的《中华人民共和国2021年国民经济和社会发展统计公报》,2021年我国集成电路出口数量达3017亿个,比上年增长19.6%,出口总额达9930亿元,比上年增长23.4%;2021年集成电路进口数量为6355亿个,比上年增长16.9%,进口总额为27935亿元,比上年增长15.4%。作为对比,2021年原油进口总额约为1.66万亿元,芯片进口总额是原油的1.7倍。巨大的贸易逆差让我国在国际贸易中处于不利的地位,所以芯片是我国亟待解决的问题之一。

基于该背景下,近期业内有很多专家解读了制造芯片的核心装备——光刻机的重要性。其实,除了光刻机以外,在我国半导体庞大的产业链中,还有很多重要环节处于发展初期。国产芯片的崛起,任重而道远,主要有三方面,需要我们关注:

第一,是作为芯片根基的材料,国内公司的市占率极低。第二,关于半导体设备。芯片的产出任何一个环节,没有半导体设备的支撑,都难以完成芯片的交付,但目前国产率在全球市场中的占比中较低。第三,被誉为“芯片之母”的EDA领域,国产方面仍然受制于人。本文将从这几个方面,剖析国内的现状,进而为大家呈现一个清晰、立体的国产芯片产业格局。

半导体材料:

利润不可观,国产占有率低

有很多人都知道,芯片是由沙子制作的,但纵观芯片制造的整个环节,所需要的材料不止于此。比如光刻胶、抛光液、靶材、特种气体等不可或缺。后端封装也需要各种材料的基板、中介层、引线框架、粘接材料等。如下图是一个3D封装芯片的示意图:其中天蓝色的是基板(Package Substrate),基板中存在引线(Standard Package Trace), 灰色的是中介层(Silicon interposer),这些都芯片中必要的材料。

3D封装芯片的示意图

半导体材料是芯片行业的根基,芯片制造没有原材料,就好比“巧妇难为无米之炊“。目前,国产半导体材料整体还相对薄弱,在品类丰富度和竞争力处于劣势地位,2021年国内半导体材料国产化率仅约10%左右。

回望国内半导体材料发展的历史,半导体是导电性介于导体和绝缘体中间的一类物质。与导体和绝缘体相比,半导体材料的发现是最晚的。直到20世纪30年代,当材料的提纯技术改进以后,半导体的存在才真正被学术界认可。半导体领域的先驱科学家在半导体材料方面做出了巨大的努力,才让今天国内在材料领域占有一小片天地。正如林兰英院士所说:“如果不靠自己努力,也许很多材料我们现在都没有”。

图左二 林兰英院士,半导体材料学家

1955年6月,林兰英在获得宾夕法尼亚大学固体物理学博士学位,也是该校建校115周年以来第一位女博士。

毕业之后,为了接近美国半导体材料研究的前沿,她在知名的希凡尼亚(英文称“Sylvania”)半导体公司任高级工程师,并帮助公司解决了诸多技术难题,获得了公司的器重。

即使年薪丰厚,但他乡再好也抵挡不住林兰英报效祖国的决心,在掌握了固体材料研制方面的知识后,她便积极筹划回国。

1957年,林兰英以旅行为名领到一张签证,冲破重重阻扰,毅然决然返回祖国。

当时国内在半导体材料方面几乎处于空白的状态,林兰英立即开展研究,并于1957年拉制成功第一根锗单晶,于1958年拉制成功第一根硅单晶,中国也成为世界上第三个生产出硅单晶的国家。

随后林兰英又着手于砷化镓材料的研究,并成为世界上最早在太空制成半导体材料砷化镓单晶的科学家。林兰英是我国半导体材料科学的领路人与开拓者,没有她在半导体领域的成就,国内在半导体领域会更加落后。

尽管相比光刻机,半导体材料所涉及的技术及高精尖仪器并不像光刻机那样复杂。

但因为国内在半导体材料领域的研究持续投入不足,加之这个行业的利润相比其他科技领域,利润并不尽如人意,导致目前国内的市占率较低。

未来几年,国家政策和基金开始向材料侧倾斜,国产半导体材料厂商也迎来了机遇和挑战。

半导体设备:

全球市场基本被美日荷三国垄断

除了被“卡脖子”的光刻机,半导体领域还有很多关键设备。比如:自动测试设备、刻蚀机、离子注入机等,这些都是芯片产业链条里的关键环节。

首先说自动测试设备。在半导体产业链中,一颗芯片的生命周期开始于对市场需求的分析,跟随着产品的定义、设计和制造,封装完成以后交付到终端消费者手中,在整个流程中需要经过多次测试。

而芯片自动测试设备中集成了众多精密的仪器,整体的造价也十分昂贵,一台价格也高达千万美元。目前,全球半导体测试机主要市场仍被美国的泰瑞达、日本的爱德万两大海外龙头占据,国产化依然有着很大的增长空间。

刻蚀机也是非常重要的装备。随着半导体制程的微缩和结构的复杂化,半导体刻蚀设备的种类和技术难度递增。但目前刻蚀设备领域长期由海外龙头垄断。

根据 Gartner 统计,全球刻蚀企业前三大分别是泛林半导体(中国台湾)、东京电子(日本)、应用材料(美国),全球市占率合计 91%。国内大陆刻蚀设备生产厂商在全球刻蚀设备市场的市占率总计不足2%。

不过,近些年来国内刻蚀厂商依托资本和政策扶持,有了快速的提升。例如中微公司的介质刻蚀已经进入台积电 7nm/5nm 产线,是目前唯一进入台积电产线的国产刻蚀设备生产商。

另外,离子注入是晶圆制造掺杂核心工艺,技术壁垒仅次于光刻、刻蚀、薄膜沉积。

目前,本土晶圆厂一般会将7%~10%的设备开支用于离子注入机。离子注入机则是为硅晶圆注入要掺杂的原子,从而芯片获得特定的电性能,否则我们即使做出来芯片,也无法正常工作。除此之外,半导体设备还包括清洗机、用于后道的封装光刻机、芯片分选机等。

我们需要关注的是:目前,半导体设备市场目前主要由美、日、荷三国企业基本垄断。根据CINNO Research的数据,2022年上半年十大半导体设备企业中,3家美国企业,5家日本企业,2家荷兰企业,没有一家中国企业。这也是为什么这次美国拉拢日、荷来商讨限制对中国出口先进芯片制造设备的协议的原因。

除了集众多高精尖技术的光刻机,其他半导体设备我国已经开始加速国产替代化的进程,但形势依然不容乐观,目前国内依然无法做到先进工艺的全流程国产化。

在成熟工艺的市场上,我国半导体的自给率目前大约在20%左右,依然有巨大的替代空间。虽然中芯国际和华虹宏力能完成28纳米工艺的量产,但尚未完成产业链的完全国产化,目前落后的环节主要还是在关键设备和材料上。

EDA:国产半导体产业链发展薄弱的环节之一

EDA被誉为“芯片设计之母”,尽管整个EDA市场规模只有百亿美元,去撬动着约5000亿美元的半导体市场规模,其杠杆效应显著。在现代超大规模芯片设计中,EDA是不可或缺的一环。目前整个EDA产业大部分被三大EDA公司新思科技(Synopsys)、楷登电子(Cadence)、和西门子EDA所垄断。

相比国外,我国的EDA起步并不算晚。1988年,国产EDA工具 “熊猫系统”开始进入研发阶段。

20世纪90 年代初,我国第一款具有自主知识产权的 EDA 工具——“熊猫 ICCAD 系统”上线,并获得了1993年的国家科学技术进步一等奖。

这款熊猫EDA上线不久,便在近20家设计公司投入使用,使用其完成了近200个芯片品种的设计,当时中国与世界领先水平的差距并没有那么大。

这不仅为国内ICCAD产品开发打下了良好的基础,更重要的是形成了一支研究开发和工程化的技术队伍。

1994年3月31日,巴黎统筹委员会宣布正式解散,彼时的国内EDA产业尚未形成规模,市场几乎处于空白状态。

而与此同时,三大EDA巨头大举进入中国,并以价格低廉、技术成熟等优势迅速收割市场,导致此后的十几年里,国内EDA发展缓慢,再次进入沉寂期,被国外拉开差距。因此,EDA逐渐成为国内半导体产业链中最为薄弱的环节之一。

国内EDA发展的转折点出现在2008年。这一年,国家核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品(核高基)等重大科技项目正式进入实施阶段。

在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020 年)》文件中,EDA被列为国家十六个科技重大专项之一。

随后,在国家政策的扶持下,华大九天于2009年成立,概伦电子于2010年成立。再加之部分国内老牌EDA企业,如广立微电子、国微集团等在国家的扶持下重获新生,国内EDA企业自此重整旗鼓再出发。

但是,从2018年开始,中兴和华为接连受到美国制裁,为国内还处于初步发展中的EDA产业敲响了警钟。

2022年8月15日,美国商务部宣布对设计GAA晶体管结构集成电路所必需的EDA软件实施出口管制。

GAA晶体管结构主要用于3纳米及以下的先进工艺,尽管目前的断供对中国绝大部分芯片公司几乎没有影响,但这也堵住了未来国内高端芯片的设计之路,并且不排除未来美国在“EDA断供”上继续加码的可能。

但我们也要看到,从2018年到2020年,国产 EDA 工具在国内市场的销售份额分别为 6.2%、8.3%、11.5%。尽管规模依然很小,但市场占有率稳中有升。

EDA的发展周期长、难度大,虽然罗马不是一日建成的,但如果假以时日,相信国产EDA一定会稳定发展。

国产芯片遭围堵?三大招出击

居安思危。我国并不是没有准备,国家也在不断出台一系列的政策支持。后来者想居上,从来都不容易。国产芯片想要在三大巨头的围堵下突破重围,势必要打出一套强有力的组合拳,需要关注以下三个方面:

首先,是政策的扶持。事实上,我国在这方面已经做得足够好,并且初见成效。比如,早在2014年6月,国务院印发了《国家集成电路产业发展推进纲要》,部署了集成电路产业2015年、2020年以及2030年的发展目标。

2030年,产业链主要环节达到国际先进水平,实现跨越发展。明确提出开发光刻胶、大尺寸硅片等关键材料,加强集成电路制造企业和装备、材料企业的协作,加快产业化进程,增强产业配套能力。

2015年国家出台《中国制造2025》,提出要形成关键制造设备的供货能力。2020年国务院发布《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策》,对半导体产业的税收、投融资、研究开发政策等八个方面做出深化指引。

当下,全球半导体行业政策已进入密集区,国内产业政策有望随着行业深化发展不断演进,朝着产业自主可控的政策目标不断前进。目前多省市也发布了和半导体材料相关的产业政策。

2021年《“十四五”国家信息化规划》提出加快集成电路设计工具等特色工艺的突破,加强集成电路等关键前沿领域的战略研究布局和技术融通创新。

EDA 方面,在《中国制造2025》中针对集成电路产业的市场规模、产能规模等提出了具体的量化目标,其中提出2025年包括EDA的集成电路设计业产值达到600亿美元,全球占比达35%。另外,各省市也陆续推出了关于EDA的若干政策。

如深圳市于2022年6月发布政策《深圳市培育发展半导体与集成电路产业集群行动计划(2022-2025年)》,旨在集聚一批EDA工具开发企业和专业团队,加强EDA工具软件核心技术攻关,推动EDA工具软件实现全流程国产化;

2021年12月,上海市发布《新时期促进上海市集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策》,宣布对于EDA重大项目新增投资可放宽到不低于5000万元;2021年8月,北京市发布《北京市“十四五”时期高精尖产业发展规划》,聚力突破EDA工具的研发和产业化等。

其次,持续增加研发投入。据统计,中国研发费用率排名前50的科技公司中,上榜最多是计算机软件与服务行业,其次是芯片半导体行业,表明了芯片公司重研发的属性。

另外,根据11家主要中国半导体设备公司(北方华创、中微公司、芯源微、华峰测控、至纯科技、拓荆科技、盛美上海、华海清科、长川科技、精测电子、晶盛机电)的财务指标统计,2022Q1-Q3,研发费用合计同比增长了59%。

虽然国产研发投入在持续增长,但整体的研发投入和芯片巨头仍有不小的差距。据行业分析机构IC Insights的数据显示,半导体巨头的英特尔、台积电、三星这三家公司加起来,就贡献了全球45.3%的研发支出额度。国产芯片的研发投入还需不断加码。

第三,注重芯片领域相关人才的培养。当前国内芯片人才总量不足,主要是高端芯片人才稀缺,半导体“抢人”氛围充斥,企业招人困难。

根据猎聘发布的《半导体行业:半导体/芯片人才趋势》研究报告显示,2020年中国半导体产业从业人数54.1万,同比增长5.7%,预计到2023年前后人才需求达到76.6万人左右,人才缺口将近23万。

从具体岗位来看,创新型、研发型人才等高级研发人才的供需矛盾明显。数据显示,在设计端,模拟设计工程师、射频设计工程师、CPU架构师、信号完整性工程师等研发工程师最为紧缺,这部分人都是芯片研发端的主力。

我国的半导体行业已经来到了十字路口,尽管面临着多方面的压力和困境,国产芯片自主化的发展道阻且长,但也难以抵挡我们前进的脚步。尽管这是一段漫长的旅途,也许需要10年,甚至20年,我们才能走出一条畅通的路,但芯片行业的发展没有捷径。

最后,也期望每位读者能了解芯片、认识芯片,或者更进一步的投身到这个行业中,实现自身价值,勇攀科技的珠峰。

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雷罚顷654光刻机是哪个国家生产的?
乔胞贺18123673202 ______ 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.

雷罚顷654请问国外产的光刻机哪些品牌可以在国内买到?
乔胞贺18123673202 ______ 你想买进口的光刻机吗,现在大部分国外的光刻机都可以在国内买到,看你选择哪个厂商了.高端的就ASML,佳能等,中端或低端的就SUSS,NXQ等,都可以在国内买到

雷罚顷654光刻机的性能指标 -
乔胞贺18123673202 ______ 光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等. 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式. 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制. 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度. 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式. 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.

雷罚顷654光刻机的价格
乔胞贺18123673202 ______ 当然不同,激光源,激光透镜,激光光路是决定价格的主要因素.ASML是世界上最先进的光刻机公司,先进的型号可制备32nm及以下的制程,是你说的淘宝上微米级不可同日而语的. 是飞机与自行车技术含量的对比.

雷罚顷654光刻机是生产CPU的么 -
乔胞贺18123673202 ______ 光刻机是生产CPU的重要设备,但是并不是只能用于生产CPU. 实际上,光刻机是半导体工艺非常重要的生产设备,用于将理论设计的电路制作到真实的Si级片上,并最终获得集成电路. 所有大规格和超大规模集成电路,都会使用到光刻机,这其中当然包括CPU,也包括GPU,单片机芯片等等各种半导体芯片. 有兴趣,百度百科的相关词条,有更详细的内容供参考.

雷罚顷654国内自主研发电子芯片的公司有哪些? -
乔胞贺18123673202 ______ 展讯 坐拥TD半壁江山 作为中国领先的手机芯片供应商之一,展讯通信(上海)有限公司一直致力于自主创新,目前已形成2G/2.5G/3G/3.5G移动通信技术基带、射频芯片产品系列,完成TD-SCDMA、TD-LTE核心芯片研发及产业化等国家重点攻...

雷罚顷654光刻机专业哪家大学好 -
乔胞贺18123673202 ______ 在光刻机专业领域内,国内一流的大学包括清华大学、上海交通大学、中国科学技术大学、南京大学等.这些大学在光刻机技术研究方面有着较深入的探索和成果,同时也举办了多次光刻机及半导体相关的学术会议.原因是这些大学的光刻制造实验室和半导体制造研究所拥有先进的设备和技术,同时特别注重导师培养学生的实践能力,让学生能够获得更广泛的学习和研究机会.此外,这些大学的光刻机专业也提供了多种专业方向的选修课程,让学生能够深入了解和掌握光刻技术的各个方面.但不一定非得去这些大学,还有很多其他大学也拥有良好的光刻机专业,可以根据个人兴趣和需求进行选择.

雷罚顷654为什么麒麟950要找台积电代工,海思生产不出来吗? -
乔胞贺18123673202 ______ 海思只是华为的芯片研发部门,它自己没专门的芯片厂生产,当然要找人代工呀,就像苹果找富士康代工手机一样,很正常.

雷罚顷654中国三大锂业龙头是什么?
乔胞贺18123673202 ______ 中国三大锂业龙头是:1.赣锋锂业赣锋锂业公司长期致力于深加工锂产品的研发和生产,综合实力位列国内深加工锂产品领域第一.主要产品包括金属锂(工业级、电池...

(编辑:自媒体)
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