磁控溅射镀膜工艺参数

单祁谢1926液晶面板:ITO/PVD/CVD制程之间的区别是什么? -
人珠媛19693799903 ______ ITO是真空磁控溅射镀膜,是PVD里面一种工艺,PVD里面还有物理气象蒸发镀膜、磁控溅射镀膜采用是物理方法成膜,CVD是化学气象沉积工艺

单祁谢1926什么叫磁控溅射工艺 -
人珠媛19693799903 ______ 出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜.二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体...

单祁谢1926磁控溅射过程中,Ar气流速对镀膜有什么影响 -
人珠媛19693799903 ______ 沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料,在单位时间内沉积到基片上的膜层厚度,该速率与溅射率成正比.有下列关系式: qt=CIh 式中: qt—表示沉积速率; C—表征溅射装置特性的常数; I—表示离子流; h—表示溅射速率. 由此式可见,...

单祁谢1926真空磁控溅射机镀锡工艺怎么镀呀 ? -
人珠媛19693799903 ______ 好的,我告诉你,真空度5.0*10-3Pa才做,镀膜真空3.0*10-1Pa/ 电流1.5-2A/ 电压300-400V /时间5-10分钟.就好了.还有问题吗?

单祁谢1926硬纸合金刀具如何溅射Tin膜?
人珠媛19693799903 ______ 硬质合金TiN涂层刀片用的最多的是磁控溅射离子镀(基体上加了负偏压的磁控溅射)技术,其基本工艺过程为:工件镀前处理—装件—抽真空—烘烤—离子轰击—冷却—取件.其中:1、工件镀前处理 镀膜前必须对镀件进行认真清洗,清洗后...

单祁谢1926真空磁控溅射镀膜工艺如何选用靶材与气体? -
人珠媛19693799903 ______ 镍靶的话,一般都是用氩气吧.颜色靠你控制镀膜速率跟充气量来决定的.不过镀玻璃膜的话好像不是用磁控溅射的吧,需要半透效果?如果是光学镀膜的话,那就要根据光波来决定了,不同的波段所呈现出来的颜色是不一样的,这个需要用专...

单祁谢1926磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术 -
人珠媛19693799903 ______ 因为磁控溅射镀膜是通过气体离子去轰击靶材,将其原子打出再沉积到基板上,这个过程中溅射出来的粒子多呈原子态,而且有较大的能量,但是溅射过程中温度升高不明显,所以称为低温沉积技术,另外,这和蒸发镀膜等其他需要高温的沉积方式相比起来,这也可以称为低温沉积技术

单祁谢1926磁控溅射膜 -
人珠媛19693799903 ______ 当然了 目前世界上膜业 最先进的技术就是磁控溅射 圣科(SUNTek) 贝卡尔特在中国的大部分都是这种膜,所以说这种膜的价格也是比较高的了. 为什么说这种膜的工艺最高呢?因为他是有金属磁控溅射的,永久不会腿色,并且隔热非常好,告诉大家啊,目前世界最高隔热是79%最高的. 有人说龙膜也有磁控溅射膜,不错.但是在中国很少,大部分都是深层染色膜.他的磁控溅射膜很贵.比圣科(SUNTek)的贵的很多.

单祁谢1926磁控溅射高手进...?
人珠媛19693799903 ______ 同意楼上靶间距增大大可能有一定改善,镀膜大面积的均匀性问题本来就存在,建议取用中心均匀区来测量.低电阻率需要控制其它的参数条件,比如温度,气氛,厚度等,还有后处理过程也很重要,比如退火.