射频电源磁控溅射

蒸发镀膜和磁控镀膜是两种常见的薄膜沉积技术，它们的主要区别在于沉积过程和原理。

蒸发镀膜是将材料加热至其蒸发温度，使材料从固态直接转变为蒸汽，然后沉积到基底表面形成薄膜。在蒸发镀膜过程中，通常使用电子束、电阻加热或者辉光放电等方式来加热材料。

磁控镀膜则是通过将材料置于磁场中，利用离子束轰击材料表面，使其离子化并沉积到基底表面形成薄膜。在磁控镀膜中，通常使用直流或射频电源提供离子束的能量。

蒸发镀膜的优点是能够制备高纯度和致密的薄膜，并且可以沉积复杂化合物和多组分材料。然而，蒸发镀膜的沉积速率较慢，且材料利用率较低。

磁控镀膜的优点是沉积速率较快，且材料利用率较高。同时，磁控镀膜还可以通过调节离子束能量和沉积条件来改变薄膜的性质。然而，磁控镀膜的薄膜质量相对蒸发镀膜较差，容易产生缺陷和杂质。

因此，选择蒸发镀膜还是磁控镀膜取决于具体应用需求和材料的特性。

谈贱霞2493按电源划分磁控溅射的类型有哪些 -
屠奋君18426871130 ______ 直流,中频,射频~~这三种比较常见

谈贱霞2493射频电源溅射范围是不是比直流大? -
屠奋君18426871130 ______ 看溅射什么材料,射频电源是形成等离子体轰击形成溅射,范围肯定比直流大,如果溅射的材料是金属的,那直流的速度要比射频快

谈贱霞2493为什么射频溅射可以制备绝缘溅射膜? -
屠奋君18426871130 ______ 一般磁控溅射方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法:PVD(物理气象沉积)、CVD(化学气象沉积). 物理气象沉积,用陶瓷靶(绝缘靶)溅射,缺点是溅射速率慢,溅射功率高,靶材容易破裂. 化学气象沉积,用活泼金属靶(Al),在溅射过程中充入适量.

谈贱霞2493射频溅射与偏压溅射的区别 -
屠奋君18426871130 ______ 射频溅射用射频电源提供能量激发等离子,偏压溅射用的是直流产生等离子,射频溅射能用绝缘靶偏压则不行,还有膜的致密度射频更好

谈贱霞2493磁控溅射技术工艺是怎样的? -
屠奋君18426871130 ______ 主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品.广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋...

谈贱霞2493关于磁控溅射的几个问题,刚刚开始做磁控溅射,现在有几个问题,1.在细纤维(柱状)上镀,关于镀膜的厚度如何测量,能用台阶仪或者电镜吗2.要镀的... -
屠奋君18426871130 ______[答案] 回答问题可能不是特别对口,部分题目不是特别详细,也没办法详细.如果有疑问再追问或者联系我. 1.膜层厚度测量问题:... 2.一般磁控溅射可以分为直流(二级)溅射、中频、射频.直流溅射电源便宜,沉积膜层致密度较差,一般国内光热、薄膜电...

谈贱霞2493阴极溅射与磁控溅射又什么区别与联系 -
屠奋君18426871130 ______[答案] 磁控溅射是阴极溅射的一种吧,是利用阴极溅射的原理进行镀膜. 磁控溅射是在二极溅射的基础上,在靶材后面放置磁钢.在与靶阴极电场垂直的方向加一横向的磁场.靶面前的电子受到电磁场洛伦兹力的作用,在靶面附近做螺旋运动,增加碰撞几率....

谈贱霞2493溅射靶材的主要应用 -
屠奋君18426871130 ______ 溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业.分类 根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶...

谈贱霞2493关于磁控溅射的几个问题,谢谢大家了 -
屠奋君18426871130 ______ 回答问题可能不是特别对口,部分题目不是特别详细,也没办法详细.如果有疑问再追问或者联系我. 1.膜层厚度测量问题:如果是纯净的氧化锌,或者说是透明的,就可以用光学方法测量膜层厚度,如果是非透明的,就用台阶仪,这量类的测...