直流磁控溅射电源

蒸发镀膜和磁控镀膜是两种常见的薄膜沉积技术，它们的主要区别在于沉积过程和原理。

蒸发镀膜是将材料加热至其蒸发温度，使材料从固态直接转变为蒸汽，然后沉积到基底表面形成薄膜。在蒸发镀膜过程中，通常使用电子束、电阻加热或者辉光放电等方式来加热材料。

磁控镀膜则是通过将材料置于磁场中，利用离子束轰击材料表面，使其离子化并沉积到基底表面形成薄膜。在磁控镀膜中，通常使用直流或射频电源提供离子束的能量。

蒸发镀膜的优点是能够制备高纯度和致密的薄膜，并且可以沉积复杂化合物和多组分材料。然而，蒸发镀膜的沉积速率较慢，且材料利用率较低。

磁控镀膜的优点是沉积速率较快，且材料利用率较高。同时，磁控镀膜还可以通过调节离子束能量和沉积条件来改变薄膜的性质。然而，磁控镀膜的薄膜质量相对蒸发镀膜较差，容易产生缺陷和杂质。

因此，选择蒸发镀膜还是磁控镀膜取决于具体应用需求和材料的特性。

纪任哈3992磁控溅射电流是辉光的电流吗? -
冉童樊18012405424 ______ 辉光放电时,电极之间有明显的放电辉光产生,典型的放电区域划分如图所示.从阴极至阳极的整个放电区域可以划分为阿斯顿暗区、阴极辉光区、克鲁克斯阴极暗区、负辉光区、法拉第暗区、正辉光区、阳极暗区和阳极辉光区八个发光强度不...

纪任哈3992急!急...磁控溅射镀膜机的工作原理,有谁知道啊? -
冉童樊18012405424 ______ 磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜.二次电...

纪任哈3992磁控溅射设备 试样转台绝缘良好 但是在试样转台上加直流脉冲偏压清洗试样时电源显示电流值过大 -
冉童樊18012405424 ______ 使用直流电源,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和.也就是说用来提供动力的正负极被中和了.然后磁控溅射将不再继续.所以采用脉冲

纪任哈3992射频电源溅射范围是不是比直流大? -
冉童樊18012405424 ______ 看溅射什么材料,射频电源是形成等离子体轰击形成溅射,范围肯定比直流大,如果溅射的材料是金属的,那直流的速度要比射频快

纪任哈3992真空镀膜设备上RF交流溅射和直流溅射在用途上有什么不同?提供的极间电压不一样吗?这二者都是直接产生电 -
冉童樊18012405424 ______ RF交流溅射--射频电源,可以溅射金属、非金属材料,溅射速率较低,镀膜较均匀. 直流溅射---恒流直流电源,只能溅射导电材料,如果溅射导磁材料如 铁、镍等需要特殊结构. 一般靶材接电源的负极(阴极)基片接另外一极. 不同的靶材的启辉电压不同,需要的溅射条件也有区别. 我的经验,铝靶材最难溅射.如果磁控靶能溅射铝靶材,其他靶材就没问题.

纪任哈3992高压电源的用途 -
冉童樊18012405424 ______ 高压电源用途很多,主要包括了X光机高压电源,激光高压电源,光谱分析高压电源,无损探伤高压电源,半导体制造设备高压电源,毛细管电泳高压电源,无损检测高压电源,半导体技术中的粒子注入高压电源、物理汽相沉积高压电源(PVD...

纪任哈3992磁控溅射射频功率源的问题? -
冉童樊18012405424 ______ 射频功率源,你那个是直流电源吧,射频的只有偏压和功率啊,直流电源有你说的那个!

纪任哈3992什么是射频磁控溅射法 -
冉童樊18012405424 ______ 可能是射频磁控溅射rf=radio-frequency

纪任哈3992什么是磁控溅射
冉童樊18012405424 ______ 磁控溅射利用高频磁控管的原理,在溅射室中引入一个与电场方向正交的磁场.在此磁场的控制下,电子局限于靶极附近并沿螺旋形轨道运动,大大提高电子对氩原子的电离效率,增加轰击靶极的离子流密度j+,实现快速的大电流溅射.同时,又能避免电子直接向衬底加速,降低衬底的温升.磁控溅射有直流和高频两类.按结构又有同轴型、平面型和S枪等多种类型.

纪任哈3992单极性脉冲偏压电源有什么作用? -
冉童樊18012405424 ______ 使用直流电源,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和.也就是说用来提供动力的正负极被中和了.然后磁控溅射将不再继续.所以采用脉冲电源. 真空镀膜简介 真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术.在真空...